NIL也被称为最有前景的光刻技术之一。
简单来讲，NIL技术有着两大优势，第一NIL更省钱，不仅设备投资仅有EUV得40%，耗电量更是仅有10%；第二技术更加独立自主，相对EUV技术而言光源靠美国、镜头靠德国、真空腔靠英国，零部件更是高达10万之多，举全国之力才能完成， 而NIL主要技术及零部件都来自佳及日本企业。
既可以不使用EUV光刻机将芯片制程提升到5纳米，又可以绕开美国的长臂管辖，如果真如佳能宣传的那样，这样的光刻机岂不是就为中国市场量身而定。怪不得专业分析师指出，ASML不给中国提供光刻机，佳能来为中国提供光刻机。
最后，我国的半导体产业正处于发展阶段，同样也在做着两手准备，左手去美化，右手全球化，能牢牢攥住中国市场发展浪潮的才会在下一个阶段脱颖而出，ASML不想在这一浪潮中被击退，因此“拒绝”美国想绑定住中国市场，而曾经没落下去的佳能也想奋奋力一击，把握住这一次大的机遇。
