三、美光绕过“EUV光刻机”造成的影响
美光绕过了光刻机，将对全球半导体产业进行全面的洗牌，ASML一家独大的局面或将一去不复返。要知道全球半导体企业苦ASML久矣，如果真能实现绕开光刻机，那么全球大量的企业都必然能够实现高精尖芯片的量产，彼时芯片的价格将大幅下跌，各国芯片产能将迅速增加。
而失去了引以为傲的EUV光刻机技术专利之后，为了维持企业的日常生计，ASML必然会对EUV光刻机进行倾销，彼时中国便可以买到便宜的EUV光刻机，从而进行本国高精尖芯片的量产，从而令如今无法制作高精尖芯片的难题一去不返。
而虽然美光实现了去光刻机化非常振奋人心，但是那仅仅只是DRAM芯片存的了成功，其实就是个存储芯片，距离真正的核心芯片应用还需要大量的实践，二者的研发难度不可同日而语。因此美光算是开了一个好头，但是想要脱离对于光刻机的依赖仍旧任重道远。
但是各大企业也在纷纷进行尝试，像是华为的芯片堆叠、通富微电的芯粒技术，以及美光的储存芯片，都在探索半导体产业去光刻机化的可能性，相信随着无数科研工作者的努力，半导体去光刻机化或许就在明天。
结语
美光利用1β(1-beta)技术绕过了光刻机，实现了芯片的量产，但是仅处于初级阶段，未来仍旧受到ASML光刻机的限制。但是随着科研工作者的不断努力，相信未来的半导体产业必将实现去光刻机化。
对于美光绕过EUV光刻机大家有什么想说的？大家觉得未来去光刻机化会成为现实吗？欢迎在评论区进行留言讨论。
