目前正在相应的手机制造商和芯片企业中进行测试,这项技术绕开了EUV光刻机。
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三、美光科技
美光科技成立于1978年,其主要产品应用于移动、计算机、服务、汽车、网络、安防、工业、消费类、医疗等多个领域。同时为客户提供针对性的解决方案。
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美光这项1β制造工艺在研制中复杂程度超过了三星等同类产品。因为这项技术的先进性很大程度上取决于晶圆面积上每平方毫米集成半导体数量的能力,主要是DRAM厂商目前都是通过不断缩小电路面积提高继承度来进行竞争的。
这项制造工艺可以提升35%的内存密度,最高速度可以达到8.5Gb,这也意味着美光已经绕开EUV光刻机。从美光科技的身上也可以看出来我国选择多条路绕开光刻机是正确的。
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从目前芯片领域的发展来看高端芯片除了光刻机以外,还是其它很多条路可以走,美国的科技公司可以,中国的科技公司也一定能做到。而对于ASML公司来说全球各个科技企业绕开光刻机,就意味着芯片领域将会迎来一场新的变革。
四、ASML公司
ASML公司是目前全球最大的半导体设备制造商之一,目前只有这一家公司拥有EUV光刻机的技术,也就是说ASML公司在高端芯片有着垄断性优势。
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但是随着美国限制出口的方案不断升级,对ASML公司的销量也造成了严重的打击。目前ASML公司正在与美国进行对抗,比如把DUV光刻机出口给中国来缓解公司销量下滑的困境。
而此时全球各科技公司绕开EUV光刻机的研制成果也越来越多,使得未来ASML公司的生存也越来越难。
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结语
无论在什么时候技术创新的道路都不会停止,新的技术代替旧的技术一直都是历史进步的体现。芯片领域新的变革已经开始,未来科技的竞争将成为各国主要发展方向。
你是如何看待我国芯片技术的呢?欢迎在评论区留言讨论。