值得一提的是，荷兰ASML公司在制作光刻机的时候，不断的去提高技术壁垒，ASML公司的员工还认为，哪怕是将图纸交给各国的企业，那么各国企业都不一定能够将产品研发出来，因为这背后所运用到的，就是各国的先进技术，里面的许多零部件，也是来自于多个国家和地区的。
而ASML公司所拥有的，恰好就是其中的核心技术，现在荷兰ASML公司又采用了美国的光源，以及德国的蔡司技术，这又进一步的加大了高端光刻机攻克的难度。
在我国面临着高端光刻机难题的时候，就有人认为，中国完全可以自主研发，但事实上，用专家的话来说，中国目前还是并没有办法，去研发出高端光刻机的。
之所以专家会有这样的想法，也是因为高端光刻机的背后，所运用到的科学技术是非常的复杂，比如说，当ASML公司制作高端光刻机的时候，除了运用到了德国的工艺技术之外，还会运用到日本的复合材料，以及现在的美国光源。
而作为高端光刻机制作者的人才，也必须要具备着许多的工业知识的支持，其中就包括了物理学、数学以及计算学等，这对高端光刻机人才有着很高的要求。
但我国目前，在人才方面仍然会出现人才储备不足的情况，人才流失也会比较的严重。
此前，ASML公司的三星、台积电以及英特尔这三大股东，所拿下的高端光刻机可以说是非常的多，而我国的企业想要购买到光刻机的话，也必须要等这些股东不需要用上的时候，才能够轮到我国的企业，否则的话，这些先进的光刻机并不是我国企业所能够轻易抢到的。
如果，中国想要自主研发高端光刻机，不仅仅是会很难攻克高端光刻机的技术壁垒，在接下来，还会面临着来自台积电、三星以及英特尔的“特别关注”。
不过，我国虽然是不能够自主研发出高端光刻机，但是在光刻机领域当中，仍然是会有好消息传出，上海微电子在90nm光刻机研发出来的消息传出之后，便能够极大程度上，给到国内其他企业更大的信心。
除此之外，国内的中科院，也已经将超分辨光刻机设备研发出来了，目前所能够达到的研发芯片，已经是10nm工艺进程。
尽管，这和荷兰ASML公司相比，的确是还有着一定的差距，但从我国在芯片领域以及高端光刻机领域当中，相继传出好消息之后，便足以看出，我国在半导体领域当中，还是有着一定的实力，并且未来也将会有着很大的进步空间。
然而，对于我国在芯片领域当中短板的暴露，以及想要更快在芯片领域当中，弥补缺陷的话，便要做到以下几点：
第一点，要有着足够充分的人才储备，人才以及科学技术实力都是非常的重要，而高端光刻机的研发，本身对人才的要求也是非常的高，如果想要攻克高端光刻机其中的相关技术，便一定要对人才有更多充分的培养。
国内的各大高校，也已经建立了集成电路学院，这能够更好的为半导体领域发展输入更多专业性的人才，但这些专业性的人才，要想留下来的话，仍然是离不开社会各方面力量的推动。
科技企业必须要给到足够好的待遇，而国内各大高校在培养人才的时候，也要积极的呼吁这些人才留在国内，为国家的发展作出贡献。
