第二个，想要攻克高端光刻机的技术壁垒，还需要不断加大研发和投入，加大研发和投入，是能够将自主研发光刻机这条道路，走得长远的必要保障。
无论是上海微电子还是中科院，相继传出的这些好消息，都足以看出，我国在社会发展起来之后，经济水平也已经有所提高，国内科技企业的自主创新程度，也已经有所加强，在许多领域当中，其实也是取得了非常不错的成就。
尽管，和一些顶尖技术相比，还是会有着很大的差距，但是一旦国内的科技企业继续加大研发投入的话，相信将会取得更加好的成绩，并且不断的缩小差距。
研发和投入力度越大，便会有更多的希望，在芯片领域以及光刻机领域当中，才会有更多的研发和创造经验，因此，对研发和投力度也是千万不能忽视的。
第三个，国内相关政策还应该要更多的倾斜于半导体领域当中，芯片领域当中短板的暴露，所带来的影响可以说是非常的大，无论是从华为企业被芯片断供政策所影响之外，还是中芯国际被实体黑名单点名，足以看出，国内科技企业的发展道路是十分的艰难以及坎坷的。
国家相关政策的扶持，可以给到这些科技企业，更多的发展动力以及发展希望，不然的话，国内科技企业在看不到希望的时候，很容易出现放弃的可能，这也将会不利于国内在半导体领域当中的发展。
总而言之，这种比原子弹还要难制造出来的光刻机，中国目前还是不能够自主研发出来的，但相信只要给足中国科技企业，一定的发展时间，以及给予他们更多的信心，便会不断地缩小与巨头科技企业之间的距离，光刻机的制造也将会指日可待。
