另外，近几年受芯片规则影响，ASML先进光刻机无法自由出货。国内科企因此无法获得更先进的光刻机，只能自研新的技术绕开光刻机。比如，光子芯片不仅不需要EUV光刻机，且性能可以达到电子芯片的1000倍，功耗只有九万分之一。
如果，以上几种方式都良性发展，未来，对于光刻机的依赖度将大大降低。而国内的光子芯片生产线落地后，行业内再共同推进光芯片的生态建设，必然能摆脱光刻机时代。
如此下去，ASML的光刻机优势将不存在，那么，ASML的时代还真可能落幕。
对此，你有什么看法呢？
另外，近几年受芯片规则影响，ASML先进光刻机无法自由出货。国内科企因此无法获得更先进的光刻机，只能自研新的技术绕开光刻机。比如，光子芯片不仅不需要EUV光刻机，且性能可以达到电子芯片的1000倍，功耗只有九万分之一。
如果，以上几种方式都良性发展，未来，对于光刻机的依赖度将大大降低。而国内的光子芯片生产线落地后，行业内再共同推进光芯片的生态建设，必然能摆脱光刻机时代。
如此下去，ASML的光刻机优势将不存在，那么，ASML的时代还真可能落幕。
对此，你有什么看法呢？
